[发明专利]光致抗蚀剂显影液及使用该显影液的基板的制造方法有效
| 申请号： | 200680021234.8 | 申请日： | 2006-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101213493A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 尾前俊吉;东野诚司;大谷俊明;名康隆 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/40;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供由含有非离子性表面活性剂和铵化合物的碱性水溶液所构成的光致抗蚀剂显影液，其通过含有0.5～10质量％规定的非离子性表面活性剂、0.01～5.0质量％规定的铵化合物，即便在对厚膜抗蚀剂进行显影时也不会发生膜渣、可以形成良好图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 显影液 使用 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂显影液，其为含有非离子性表面活性剂和铵化合物的碱性水溶液所构成的光致抗蚀剂显影液，其中，所述非离子性表面活性剂为具有1种或2种以上氧化烯基的重复结构、且具有11～70单元该氧化烯基的非离子性表面活性剂，其含量在以所述光致抗蚀剂显影液总质量为100质量％时为0.5～10质量％，所述铵化合物为下述通式(1)所示的铵化合物，其含量在以所述光致抗蚀剂显影液总质量为100质量％时为0.01～5.0质量％。(式(1)中，R1为碳原子数4～40的有机基，R2、R3和R4 各自独立为碳原子数1～20的有机基或者其中2个或3个相互键合形成碳原子数4～20的杂环，X为OH、Cl、Br或I。)
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