[发明专利]中间掩模对准技术有效
| 申请号： | 200680021327.0 | 申请日： | 2006-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN101313403A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | S·M·列扎·萨贾迪 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/00;G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚;尚志峰 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供用于对准中间掩模的方法(304，324)。形成具有第一对准网格的第一图案化层(308)。在该第一图案化层上形成侧壁层以执行第一收缩(312)。收缩后的该第一对准网格被蚀刻入蚀刻层以形成蚀刻的第一对准网格(316)。去除该图案化层(320)。 | ||
| 搜索关键词： | 中间 对准 技术 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：形成带有第一对准网格的第一图案化层；在所述第一图案化层上形成侧壁层，以执行第一收缩；将收缩后的所述第一对准网格蚀刻入蚀刻层，以形成蚀刻的第一对准网格；去除所述图案化层；测量在所述蚀刻的第一对准网格上对准的第二对准网格的光学图案；以及使用所述光学图案，以确定所述第二对准网格是否在所述蚀刻的第一对准网格上被对准。
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