[发明专利]低温下制造的包括半导体二极管的高密度非易失性存储器阵列有效
申请号: | 200680022945.7 | 申请日: | 2006-05-05 |
公开(公告)号: | CN101297402A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | S·布拉德·赫纳;塞缪尔·V·邓顿 | 申请(专利权)人: | 桑迪士克3D公司 |
主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06;H01L27/102 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 刘国伟 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明阐述一种适合用于高密度整体式三维存储器阵列的存储器单元。在所述存储器单元的优选实施例中,在各导体之间形成由锗或锗合金形成且可在相对较低温度下结晶的半导体结型二极管。使用低温材料允许所述导体由铜或铝形成,这两种低电阻率材料都在非常小的形体尺寸下提供充足的电流,从而实现高密度的堆叠阵列。 | ||
搜索关键词: | 低温 制造 包括 半导体 二极管 高密度 非易失性存储器 阵列 | ||
【主权项】:
1、一种形成整体式三维存储器阵列的方法,所述方法包括:在衬底上方形成第一存储器阶层,所述第一存储器阶层包括多个第一存储器单元,每一第一存储器单元均包含半导体材料;及在所述第一存储器阶层上方整体地形成第二存储器阶层,其中在形成所述整体式三维存储器阵列期间,所述阵列形成期间的处理温度不超过约500摄氏度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的