[发明专利]光源的平面阵列所发射的收敛光线的获得有效

专利信息
申请号: 200680022965.4 申请日: 2006-07-07
公开(公告)号: CN101208594A 公开(公告)日: 2008-06-25
发明(设计)人: 里欧·鲍德温 申请(专利权)人: 伊雷克托科学工业股份有限公司
主分类号: G01N21/00 分类号: G01N21/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 许静
地址: 美国奥*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提出了用于获得光源(118、120)的平面阵列所发射的收敛光线(123、126)的系统和方法。在一个实施例中,提出了一种成像装置(200),用于检查半导体或其它物体(116)。成像装置(200)包括用于成像从物体(116)反射的光线的一个或多个成像透镜(112)。成像装置(200)还包括附接到平面电路板(212)的第一光源(118),以及附接到平面电路板(212)的第二光源(120)。成像装置(200)进一步包括用于指引来自第一光源(118)的光线从第一方向朝向物体(116)的第一菲涅耳棱镜(214)、以及用于指引来自第二光源(120)的光线从第二方向朝向物体的第二菲涅耳棱镜(216)。在一个实施例中,成像装置(300、400)还包括用于提高或降低光线的散度的一个或多个光学元件(310、312、410、412)。
搜索关键词: 光源 平面 阵列 发射 收敛 光线 获得
【主权项】:
1.一种用于检查半导体的成像装置,所述成像装置包括:一个或多个成像透镜,用于成像从物体反射的光线;平面电路板;第一光源,附接到所述平面电路板;第二光源,附接到所述平面电路板;第一菲涅耳棱镜,用于指引来自第一光源的光线从第一方向朝向所述物体;及第二菲涅耳棱镜,用于指引来自第二光源的光线从第二方向朝向所述物体。
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