[发明专利]使用光电子能谱来确定层厚有效
| 申请号： | 200680023949.7 | 申请日： | 2006-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN101228609A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | B·许勒尔 | 申请（专利权）人： | 瑞沃瑞公司 |
| 主分类号： | H01J40/00 | 分类号： | H01J40/00 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 根据本发明的一个实施例，使用光电子能谱来确定基片上的单个或多个层结构中的一个或多个层的厚度。可以通过测量当使用光子轰击时由所述结构所放射出的两个光电子核素或其他原子特定特性电子核素的强度来确定所述厚度。为每个光电子核素确定关于层的厚度的预测强度函数。形成两个预测强度函数的比值，对该比值进行迭代以确定所述结构的层的厚度。根据一个实施例，可以通过测量来自单个层的两个光电子核素来确定该层的厚度。根据另一个实施例，可以通过测量来自不同层或来自基片的两个光电子核素来确定层的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 光电子 能谱来 确定 | ||
【主权项】：
1.一种使用电子能谱来确定层的厚度的方法，该方法包括：对于所述层的第一电子核素确定关于所述层的厚度的第一预测强度函数；对于所述层的第二电子核素确定关于所述层的厚度的第二预测强度函数；确定第一和第二预测强度函数的比值；以及将所述比值进行迭代以确定所述层的厚度。
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