[发明专利]热成像构件和方法有效
申请号: | 200680024340.1 | 申请日: | 2006-05-12 |
公开(公告)号: | CN101495322A | 公开(公告)日: | 2009-07-29 |
发明(设计)人: | M·P·费罗萨;S·J·特尔菲尔;J·L·马沙尔;R·M·艾伦;J·M·哈丁 | 申请(专利权)人: | 津克成像有限责任公司 |
主分类号: | B41M5/385 | 分类号: | B41M5/385 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘 冬;李连涛 |
地址: | 美国麻*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明描述了使用不对称若丹明化合物的热成像构件和热成像方法。若丹明成色化合物为晶形时呈现第一种颜色,为无定形时呈现不同于第一种颜色的第二种颜色。 | ||
搜索关键词: | 成像 构件 方法 | ||
【主权项】:
1.一种包含载有成像层的基底的热成像构件,所述成像层包括下式I表示的化合物
其中:R1、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R14各自独立选自氢、烷基、取代烷基、烯基、取代烯基、杂环烷基、取代杂环烷基、烷氧基、取代烷氧基、取代羰基、酰氨基、卤素、芳基、取代芳基、杂芳基和取代杂芳基;R2选自氢、烷基、取代烷基、烯基、取代烯基、杂环烷基和取代杂环烷基;或者R2和R3与其连接的氮原子一起可以形成取代或未取代的饱和杂环;R9不存在或者选自氢、烷基、取代烷基、烯基、取代烯基、杂环烷基、取代杂环烷基、烷氧基、取代烷氧基、取代羰基、卤素、芳基、取代芳基、杂芳基、取代杂芳基、氨基、取代氨基、烷基氨基、取代烷基氨基、芳基氨基和取代芳基氨基;R10、R11和R12各自独立选自氢、烷基、取代烷基、烯基、取代烯基、杂环烷基、取代杂环烷基、烷氧基、取代烷氧基、取代羰基、卤素、芳基、取代芳基、杂芳基、取代杂芳基、氨基、取代氨基、烷基氨基、取代烷基氨基、芳基氨基和取代芳基氨基;R13选自氢、烷基、取代烷基、烯基、取代烯基、杂环烷基和取代杂环烷基;R14选自氢、烷基、取代烷基、烯基、取代烯基、杂环烷基和取代杂环烷基;或者R13和R14与其连接的原子一起可以形成五元或六元杂环;R15、R16、R17和R18各自独立选自氢、烷基、取代烷基、烯基、取代烯基、杂环烷基、取代杂环烷基、烷氧基、取代烷氧基、取代羰基、卤素、芳基、取代芳基、杂芳基、取代杂芳基、氨基、取代氨基、烷基氨基、取代烷基氨基、芳基氨基和取代芳基氨基;且X1为碳或氮;条件是R2和R13只有一个为氢;其中所述化合物为晶形。
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