[发明专利]硬质材料涂覆体和它们的制备方法有效
申请号: | 200680024494.0 | 申请日: | 2006-07-04 |
公开(公告)号: | CN101218370A | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
发明(设计)人: | 因戈尔夫·恩德勒 | 申请(专利权)人: | 弗劳恩农场主协会应用研究开发E.V. |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 郭国清;樊卫民 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种具有单层或多层体系的硬质材料涂覆体和其制备方法,所述的层体系包括至少一个Ti1-xAlxN硬质材料层。本发明的目的在于获得耐磨损性和抗氧化性显著提高的这种硬质材料涂覆体。所述硬质材料涂覆体的特征在于所述物体涂覆有至少一个不需等离子体激发通过CVD产生的Ti1-xAlxN硬质材料层,其中所述Ti1-xAlxN硬质材料层作为立方体NaCl结构的单相层存在,其中化学计量系数x>0.75,高达x=0.93,晶格常数afcc为0.412nm-0.405nm,或其中Ti1-xAlxN硬质材料层是多相层,其主相由具有立方体NaCl结构的Ti1-xAlxN组成,其中化学计量系数x>0.75,高达x=0.93,晶格常数afcc为0.412nm-0.405nm,包含作为附加相的纤锌矿结构的Ti1-xAlxN和/或NaCl结构的TiNx。所述硬质材料层的另一个特征在于,其中氯含量为0.05-0.9at%。本发明还涉及一种制造所述物体的方法,其特征在于,不需要等离子体激发,在700℃-900℃的温度下在反应器中通过CVD涂覆该物体,以卤化钛、卤化铝和反应性氮化合物作为前体,在高温下混合。本发明的涂层能够用于钢制的工具、硬金属、金属陶瓷和陶瓷,比如钻、铣刀和镶入式截坯刀。 | ||
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【主权项】:
1.一种具有单层或多层层体系的硬质材料涂覆体,所述的层体系包括至少一个不需等离子体激发通过CVD制造的Ti1-xAlxN硬质材料层,其中Ti1-xAlxN硬质材料层作为立方体NaCl结构的单相层存在,其中化学计量系数x>0.75,高达x=0.93,晶格常数afcc为0.412nm-0.405nm,或其中Ti1-xAlxN硬质材料层是多相层,其主相由具有立方体NaCl结构的Ti1-xAlxN组成,其中化学计量系数x>0.75,高达x=0.93,晶格常数afcc为0.412nm-0.405nm,包含作为附加相的纤锌矿结构的Ti1-xAlxN和/或NaCl结构的TiNx,其中Ti1-xAlxN硬质材料层的氯含量为0.05-0.9at%。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的