[发明专利]多层构造体及其清洗方法有效
| 申请号： | 200680025075.9 | 申请日： | 2006-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN101218375A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 大见忠弘;寺本章伸;森永均;岸幸男;大泷浩通;传井美史 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东北大学;日本陶瓷科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C26/00 | 分类号： | C23C26/00;C23C16/40;B08B3/12;C23C28/04;C23C14/08;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 现在，迅速且经济性地提供大型的陶瓷构件处于困难的状况。通过在比较容易制作的材料上形成的基材上形成陶瓷膜，构成多层构造体。陶瓷膜可以通过等离子体熔射、CVD、PVD或者溶胶－凝胶法等方法制成，另外也可以通过与熔射膜组合的方法进行成膜。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 构造 及其 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多层构造体，其具备基材和在该基材表面上形成的膜，其特征在于，在所述膜上具有0.2μm以上粒径的粒子的附着数每1mm2为2个以下。
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