[发明专利]用于厚膜成像的光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 200680025340.3 | 申请日： | 2006-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN101218541A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | M·A·托克西;卢炳宏;S·K·穆伦 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/022;G03F7/023;G03F7/105 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供可用于使厚膜成像的光敏光致抗蚀剂组合物，它包括在含水碱性显影剂中不溶但在显影之前变得可溶的聚合物，一旦辐照则产生强酸的光致产酸剂和可光漂白的染料。本发明进一步提供使本发明的光致抗蚀剂成像的方法，特别是其中光致抗蚀剂的厚度最多200微米的情况和其中该方法包括单步曝光的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，它包括在含水碱性显影剂中不溶但在显影之前变得可溶的聚合物，一旦辐照则产生强酸的光致产酸剂和在与光致产酸剂相同的辐射线下吸收的可光漂白的染料。
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