[发明专利]用于二氧化硅和氮化硅层的可印刷蚀刻介质有效
| 申请号： | 200680025884.X | 申请日： | 2006-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN101223116A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | W·斯托库姆;A·库贝尔贝克;中野渡旬 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;张耀宏 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及在太阳能电池制造中用于蚀刻表面的具有非牛顿流动性能的新型可印刷蚀刻介质及其用途。本发明还涉及既适合蚀刻无机层又适合掺杂底下层的蚀刻和掺杂介质。特别地，它们是相应的含粒子的组合物，借助该组合物可以在不破坏或侵蚀相邻区域的情况下高选择性地蚀刻极细的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 二氧化硅 氮化 可印刷 蚀刻 介质 | ||
【主权项】：
1.细粒状石墨和/或炭黑形式的细粒状无机粉末，和/或选自聚苯乙烯、聚丙烯酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸酯、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、苯并鸟嘌呤树脂、酚树脂、硅树脂、微粒化纤维素、氟化聚合物(PTFE、PVDF)的细粒状塑料粉末形式的细粒状有机粉末，和非必要微粒化蜡，和选自氧化铝、氟化钙、氧化硼、氯化钠的非必要细粒状无机粉末在用于在玻璃状或结晶层中蚀刻极细线路或结构和非必要用于掺杂玻璃状或结晶层的糊状可印刷组合物中的用途。
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