[发明专利]光刻设备、确定其至少一个偏振属性的方法、检偏器和偏振传感器

摘要

公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

主权项

1.一种光刻设备，包括：照射系统，被配置用于调节辐射束；支撑结构，被构建用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案赋予辐射束的横截面上，以形成图案化的辐射束；衬底台，被构建用于保持衬底；投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；检测器，用于测量辐射通过投影系统之后的辐射强度；可调整的偏振改变元件；以及检偏器，其中所述偏振改变元件和检偏器按顺序设置在辐射束路径中且在这样的水平面：即图案形成装置将被支撑结构支撑在所述水平面。