[发明专利]用于监控工艺环境中的动态参数的自校正多变量分析无效
| 申请号： | 200680029155.1 | 申请日： | 2006-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN101238421A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | U·J·利弗－艾米;L·亨德勒 | 申请（专利权）人： | MKS仪器股份有限公司 |
| 主分类号： | G05B23/02 | 分类号： | G05B23/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈炜 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于工艺监控的方法和设备。工艺监控包括(i)根据与工艺环境的监控参数相对应的数据，产生工艺环境的多变量分析基准模型；(ii)指定与工艺环境的成熟相关的至少一个监控参数；(iii)收集与监控参数相对应的当前工艺数据，其中包括至少一个经指定的参数；以及(iv)基于至少一个经指定的参数的当前工艺数据来调整多变量基准模型以解释工艺环境的成熟。该方法进一步包括：根据当前工艺数据来产生用于表示工艺环境当前状态的一个或多个当前多变量分析工艺度量；以及将当前工艺度量和调整的基准模型进行比较以确定工艺环境的当前状态是否可接受。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 监控 工艺 环境 中的 动态 参数 校正 多变 分析 | ||
【主权项】：
1.一种工艺监控方法，包括：根据与工艺环境的监控参数相对应的数据，产生工艺环境的多变量分析基准模型；标识与工艺环境的成熟相关的至少一个监控参数；收集与监控参数相对应的当前工艺数据，其中包括至少一个经标识的参数；以及基于至少一个经标识的参数的当前工艺数据，调整多变量基准模型，以解释工艺环境的成熟。
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