[发明专利]一种制造光学系统的方法有效

专利信息
申请号: 200680029513.9 申请日: 2006-08-01
公开(公告)号: CN101243351A 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: 帕斯卡尔·阿利翁;吉勒·勒索;让-皮埃尔·肖沃;德尼·马聚埃 申请(专利权)人: 埃西勒国际通用光学公司
主分类号: G02C7/02 分类号: G02C7/02;G02B3/10;G02B3/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 罗朋
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种光学系统(OS)的计算方法,该光学系统(OS)用函数(OF)标识,该光学系统(OS)包括用第一方程定义(EF1)的第一部分(F1)和用第二方程定义(EF2)的第二部分(F2),该方法包括步骤:-产生步骤(GEN),其中用虚拟光学系统(VOS)产生虚拟函数(VOF);-修正步骤(MOD),其中虚拟函数(VOF)被修正以获得函数(OF);-计算步骤(CAL),其中,基于函数(OF)以及第一方程(EF1)计算第二方程(EF2)。本发明还涉及一种光学系统(OS)的制造方法。
搜索关键词: 一种 制造 光学系统 方法
【主权项】:
1.一种计算光学系统(OS)的方法,其中,该光学系统(OS)用函数(OF)标识,其特征在于,所述光学系统(OS)包括用第一方程(EF1)定义的第一部分(F1)以及用第二方程(EF2)定义的第二部分(F2),该方法包括以下步骤:-产生步骤(GEN),其中,用虚拟光学系统(VOS)产生虚拟函数(VOF);-修正步骤(MOD),其中,修正虚拟函数(VOF)以获得函数(OF);-计算步骤(CAL),其中,用于通过函数(OF)和第一方程(EF1)计算第二方程(EF2)。
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