[发明专利]噻唑基哌啶衍生物

摘要

本发明涉及式(I)化合物，其中R¹、R²和R³如说明书和权利要求书中定义。本发明还涉及其药用盐，以及包含这些化合物的药物组合物和它们的制备方法。所述化合物可用于治疗和/或预防与H3受体的调节有关的疾病。

主权项

1.下式I的化合物：其中R¹选自：苯基，其是未取代的或被1个或2个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级卤代烷基，低级烷氧基，低级卤代烷氧基，氰基，吡咯基和低级羟基烷基，四氢化萘基，其是未取代的或被1至4个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级卤代烷基，低级烷氧基，低级卤代烷氧基，氰基，吡咯基和低级羟基烷基；苯并[1，3]二氧杂环戊烯基，苯并[1，4]二氧杂环庚烯基，环烷基，吡啶基，其是未取代的或被1个或2个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级卤代烷基，低级烷氧基，低级卤代烷氧基，氰基，吡咯基和低级羟基烷基，吡嗪基，其是未取代的或被1个或2个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级卤代烷基，低级烷氧基，低级卤代烷氧基，氰基，吡咯基和低级羟基烷基，噻吩基，其是未取代的或被1个或2个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级卤代烷基，低级烷氧基，低级卤代烷氧基，氰基，吡咯基和低级羟基烷基，和-CO-NR⁴R⁵，其中R⁴为氢或低级烷基，R⁵为苯基，其是未取代的或被1个或2个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级烷氧基和低级羟基烷基，或R⁴和R⁵与它们连接的氮原子一起形成4-，5-，6-或7-元饱和或部分不饱和的杂环，所述的杂环任选含有选自氮、氧或硫中的另外杂原子，所述的饱和杂环是未取代的或被1、2或3个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，卤代烷基，羟基，低级羟基烷基，低级烷氧基，氧代，苯基，苄基，吡啶基，二烷基氨基，氨基甲酰基，低级烷基磺酰基，和低级卤代烷基羰基氨基，或是与苯环稠合的，所述的苯环是未取代的或被1、2或3个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，低级烷氧基和卤素；R²为氢或低级烷基；R³为C₃-C₈-烷基或环烷基；及其药用盐。