[发明专利]聚乙烯微多孔膜及其制造方法以及电池用隔离件有效
| 申请号： | 200680031471.2 | 申请日： | 2006-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN101253232A | 公开（公告）日： | 2008-08-27 |
| 发明（设计）人： | 泷田耕太郎;菊地慎太郎;山田一博;中村悌二;河野公一 | 申请（专利权）人： | 东燃化学株式会社 |
| 主分类号： | C08J9/00 | 分类号： | C08J9/00;H01M2/16 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种聚乙烯微多孔膜，其特征在于，由质均分子量在7×105以上的超高分子量聚乙烯的比例为1质量％以上且质均分子量相对数均分子量的比为5～300的聚乙烯类树脂构成，其中，聚乙烯微多孔膜具有(a)至少在一面形成的、平均细孔直径超过0.04μm的粗大构造层、和(b)平均细孔直径为0.04μm以下的致密构造层，在膜断面中，所述粗大构造层相对所述致密构造层的面积比为0.1～0.8。 | ||
| 搜索关键词： | 聚乙烯 多孔 及其 制造 方法 以及 电池 隔离 | ||
【主权项】：
1.一种聚乙烯微多孔膜，其是由质均分子量在7×105以上的超高分子量聚乙烯的比例为1质量％以上且质均分子量相对数均分子量的比为5～300的聚乙烯类树脂构成的聚乙烯微多孔膜，其特征在于，具有(a)至少在一面形成的平均细孔直径超过0.04μm的粗大构造层、和(b)平均细孔直径为0.04μm以下的致密构造层，在膜断面中，所述粗大构造层相对所述致密构造层的面积比为0.1～0.8。
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