[发明专利]用于脉冲沉积监测和控制的传感器无效
申请号: | 200680031477.X | 申请日: | 2006-06-28 |
公开(公告)号: | CN101253283A | 公开(公告)日: | 2008-08-27 |
发明(设计)人: | M·斯帕策 | 申请(专利权)人: | MKS仪器公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王永建 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 用传感器监测通过脉冲气体传输装置进行的气体传输。传感器可以包括在包括待传输气体的吸收频率的光谱范围内产生辐射的源。光辐射通过容纳有被传输气体的容器来传输。通过容器中气体的光辐射传输之后检测器确定由源到达检测器的辐射的强度。控制器通过所检测的强度来确定容器中气体的光辐射吸收量,从而测量由气体传输装置传输的气体的精确的量。控制器还通过将被传输的气体的量适当地调节至预定量而实时地监控制台气体的传输。传感器和控制器还可以监测气体传输装置的故障或超出故障行为。 | ||
搜索关键词: | 用于 脉冲 沉积 监测 控制 传感器 | ||
【主权项】:
1.一种设备,包括:脉冲气体传输装置,其被构造为以一个或多个脉冲传输气体;传感器,其与脉冲气体传输装置相连并被构造为响应通过该气体传输装置进行的气体传输的存在或缺乏;以及控制器,其被构造为通过传感器的响应来确定由脉冲气体传输装置传输的气体的量。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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