[发明专利]光学装置及其制造方法无效
申请号: | 200680032121.8 | 申请日: | 2006-08-25 |
公开(公告)号: | CN101253426A | 公开(公告)日: | 2008-08-27 |
发明(设计)人: | 赤羽良启;织田一彦;松浦尚;后利彦;今井贵浩 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G02B6/12;G02B6/036;G02B6/13 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁业平;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种光学装置,该光学装置包括含有硅、氧、碳和氢作为主要成分的透明薄膜,其中所述薄膜包括具有较高折射率的局部区和具有较低折射率的局部区。 | ||
搜索关键词: | 光学 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光学装置,该光学装置包括含有硅、氧、碳和氢作为主要成分的透明薄膜,其中所述薄膜包括具有较高折射率的局部区和具有较低折射率的局部区。
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