[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 200680032376.4 | 申请日： | 2006-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN101258448A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 梶山康一;渡边由雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G01B11/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;马少东 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置，利用拍摄装置3在同一视场内分别捕捉并拍摄形成在滤色基板6上的基板侧对准标记和形成在光掩膜7上的掩膜侧对准标记，基于该拍摄到的基板侧和掩膜侧对准标记的各图像，相对移动载物台1和掩膜载物台2，对滤色基板6与光掩膜7进行对位后进行曝光，并且具有光学距离修正装置4，该光学距离修正装置4使拍摄装置3的线阵CCD22与滤色基板6之间的光学距离和拍摄装置3的线阵CCD22与光掩膜7之间的光学距离大致一致。由此，缩短基板和光掩膜的对位的处理时间。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，具有：载物台，其在上表面载置并保持涂覆有感光性树脂的基板，掩膜载物台，其设置在上述载物台的上方，用于保持光掩膜，以使光掩膜靠近上述基板并与上述基板对置，拍摄装置，其分别将形成于上述基板上的基板侧对准标记和形成于上述光掩膜上的掩膜侧对准标记捕捉到同一视场内，并进行拍摄；上述曝光装置基于上述拍摄装置拍摄到的上述基板侧及掩膜侧对准标记的各图像，使上述载物台和掩膜载物台相对移动，以此对上述基板和光掩膜进行对位，然后进行曝光，上述曝光装置的特征在于，上述曝光装置具有光学距离修正装置，该光学距离修正装置使上述拍摄装置的受光面与基板之间的光学距离和上述拍摄装置的受光面与光掩膜之间的光学距离大致一致。
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