[发明专利]光刻技术方法无效
| 申请号： | 200680032459.3 | 申请日： | 2006-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN101258446A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 彼得·桑德贝尔根;耶罗恩·H·拉默斯;戴维·范斯滕温克尔 | 申请（专利权）人： | NXP股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/038 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈源;张天舒 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻图案成形的方法。该方法包括：向要形成图案的表面涂覆包含聚合物树脂、光催化剂产生剂(其在曝光于光化辐射中时产生催化剂)、以及淬灭剂的光致抗蚀剂(18)；通过掩模图案(12)将光致抗蚀剂(18)曝光于光化辐射；执行曝光后烘焙；然后用显影剂对光致抗蚀剂(18)进行显影，以去除在显影剂中变得可溶解的光致抗蚀剂部分；聚合物树脂在曝光于光化辐射之前基本上不溶解于显影剂，通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得溶解于显影剂中，或者聚合物树脂在曝光于光化辐射之前溶解于显影剂，通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得基本上不溶解于显影剂中。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 技术 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻图案成形的方法，其包括步骤：向要形成图案的表面涂覆光致抗蚀剂(18)，该光致抗蚀剂包含聚合物树脂、在曝光于光化辐射时产生催化剂的光催化剂产生剂、以及淬灭剂；通过掩模图案(12)将光致抗蚀剂(18)曝光于光化辐射；执行曝光后烘焙；以及然后用显影剂对光致抗蚀剂(18)进行显影，以去除在显影剂中变得可溶解的光致抗蚀剂部分；其中，聚合物树脂在曝光于光化辐射之前基本上不溶解于显影剂，而通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得溶解于显影剂中，或者聚合物树脂在曝光于光化辐射之前溶解于显影剂，而通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得基本上不溶解于显影剂中。
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