[发明专利]曝光装置

摘要

本发明具有：台架13，其将滤色基板11装载在上表面13a上；掩模台架6，其配设在所述台架13的上方，而且能够平行于该台架13的上表面地保持长方形光掩模5；光源2，其向保持在所述掩模台架6的所述光掩模5照射曝光光；而且，将从所述光源2放射的曝光光通过所述光掩模5，照射到所述滤色基板11上，从而在规定位置形成规定曝光图案的曝光装置；并且，在所述光源2和掩模台架6之间的光路上配设有柱面透镜14，该柱面透镜14根据长方形光掩模5的形状，整形所述光源2放射的曝光光的光束的截面形状。由此，提高照射到长方形光掩模的曝光光的利用效率。

主权项

1.一种曝光装置，具有：台架，其在上表面装载被曝光体，掩模台架，其配设在所述台架的上方，而且可与该台架的上表面平行地保持长方形光掩模，光源，其对保持在所述掩模台架上的光掩模放射曝光光；而且，将所述光源放射的曝光光通过所述光掩模照射到所述被曝光体上，从而在规定位置形成规定的曝光图案；其特征在于，在所述光源和掩模台架之间的光路上配设有光束截面形状整形装置，所述光束截面形状整形装置把从所述光源放射的曝光光的光束的截面形状，整形成与所述长方形光掩模的形状一致。