[发明专利]成膜装置及成膜方法无效
申请号: | 200680033249.6 | 申请日: | 2006-07-14 |
公开(公告)号: | CN101263565A | 公开(公告)日: | 2008-09-10 |
发明(设计)人: | 后藤谦次;川岛卓也;田边信夫;铃木康雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社藤仓 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;C03C17/25;C23C18/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 雒运朴;李伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种成膜装置及成膜方法,该成膜装置具备:生成粒径受到控制的液态微粒的机构A,由对所生成的上述液态微粒一边进行温度控制一边进行引导的空间所构成的机构B,对所引导的上述液态微粒进行喷出的机构C,以及由使雾状喷出的上述液态微粒涂敷于被处理体而形成透明导电膜的空间构成的机构D。 | ||
搜索关键词: | 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种成膜装置,其特征在于,具备:生成粒径受到控制的液态微粒的机构A,由对所生成的上述液态微粒一边进行温度控制一边进行引导的空间所构成的机构B,雾状喷出所引导的上述液态微粒的机构C,以及由使雾状喷出的上述液态微粒涂敷于被处理体而形成透明导电膜的空间构成的机构D。
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