[发明专利]微光刻投影光学系统、用于制造装置的方法以及设计光学表面的方法有效
| 申请号： | 200680033544.1 | 申请日： | 2006-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN101263430A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | H－J·曼恩;W·乌尔里希;M·普莱托里尔斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于静 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 总体上，本发明的一方面包括一种微光刻投影光学系统(101)，其包括：多个元件(310－360)，其被设置为将来自物平面(103)的光成像到像平面(102)，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面。所述旋转非对称表面从旋转对称表面偏离约10nm以上，并且所述光学系统是微光刻投影光学系统。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投影 光学系统 用于 制造 装置 方法 以及 设计 光学 表面 | ||
【主权项】：
1.一种微光刻投影光学系统，包括：多个元件，其被设置为将来自物平面的波长为λ的光成像到像平面，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面，其中，在至少一个位置，所述旋转非对称表面从最佳拟合旋转对称表面偏离至少λ。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT股份有限公司，未经卡尔蔡司SMT股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680033544.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
