[发明专利]抛光方法和抛光装置以及用于控制抛光装置的程序有效
| 申请号： | 200680033601.6 | 申请日： | 2006-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN101262981A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | 鸟越恒男;山口都章 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;H01L21/304;B24B53/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王永建 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种抛光方法，其可在重新开始抛光之前使抛光表面达到适于抛光的最佳状态，而不需要使用假晶片等，因此省去了假晶片等的成本。该抛光方法包括：在抛光休止时间段中进行待机运行；在待机运行完成之后，通过在向抛光表面供给抛光液体的同时修整抛光表面进行抛光准备过程；以及在抛光准备过程完成之后开始工件的抛光。可基于待机运行的总运行时间或待机运行的总有效次数确定是否在待机运行完成之后进行抛光准备过程。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 方法 装置 以及 用于 控制 程序 | ||
【主权项】：
1.一种抛光方法，其包括：在抛光休止时间段中进行待机运行；在待机运行完成之后，通过在向抛光表面供给抛光液体的同时修整抛光表面进行抛光准备过程；以及在抛光准备过程完成之后开始工件的抛光。
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