[发明专利]微光刻曝光系统的光学系统有效
| 申请号： | 200680033920.7 | 申请日： | 2006-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN101263432A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | M·托特泽克;S·贝德;W·克劳斯;H·费尔德曼;D·克拉默;A·多多克 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;魏军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 根据本发明的一个方面，一种光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，具有光学系统轴(OA)和由三个双折射元件(211，212，213)构成的至少一个元件组(200)，每个双折射元件由光学单轴材料制成并具有非球面，其中所述组的第一双折射元件(211)具有其光学晶轴的第一取向；所述组的第二双折射元件(212)具有其光学晶轴的第二取向，其中所述第二取向能够被描述为由所述第一取向的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴旋转90°或其整数倍的角的旋转；所述组的第三双折射元件(213)具有其光学晶轴的第三取向，其中所述第三取向能够被描述为由所述第二取向的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴旋转90°或其整数倍的角的旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 曝光 系统 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，所述光学系统具有光学系统轴(OA)以及由三个双折射元件构成的至少一个元件组(200)，每个双折射元件由光学单轴材料制成并具有非球面，其中：所述组的第一双折射元件(211，221，511，521，531，541，551，561)具有其光学晶轴的第一取向(ca-1)；所述组的第二双折射元件(212，222，512，522，532，542，552，562)具有其光学晶轴的第二取向(ca-2)，其中所述第二取向能够被描述为由所述第一取向(ca-1)的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴(OA)旋转90°或其整数倍的角的旋转；以及所述组的第三双折射元件(213，223，513，523，533，543，553，563)具有其光学晶轴的第三取向(ca-3)，其中所述第三取向能够被描述为由所述第二取向的旋转形成，所述旋转不对应于绕光学系统轴(OA)旋转90°或其整数倍的角的旋转。
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