[发明专利]用于光致抗蚀剂应用的低活化能溶解改性剂有效
| 申请号： | 200680034135.3 | 申请日： | 2006-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN101288027A | 公开（公告）日： | 2008-10-15 |
| 发明（设计）人： | R·D·艾伦;R·A·迪彼特罗;H·特鲁昂;P·J·布罗克;R·苏利亚库马兰 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;C07J9/00;C07J17/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种光致抗蚀剂组合物，它包括：聚合物；光致产酸剂；和溶解改性剂。使用该光致抗蚀剂组合物和溶解改性剂组合物，形成图像的方法。该溶解改性剂不溶于含水碱性显影剂内且抑制聚合物在显影剂内溶解，直到通过光致产酸剂暴露于光化辐射线下生成酸，其中溶解改性剂在合适的温度下变为可溶于显影剂内，并允许聚合物溶解在显影剂中。该溶解改性剂是用酸不稳定性的乙氧基乙基、四氢呋喃基和当归内酯基保护的葡糖苷、胆酸酯、柠檬酸酯和金刚烷二羧酸酯。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光致抗蚀剂 应用 活化能 溶解 改性 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，它包括：在含水碱性显影剂内可溶的聚合物；光致产酸剂；和溶解改性剂，所述溶解改性剂疏水且不溶于含水碱性显影剂内，从而抑制聚合物在光致抗蚀剂层的未曝光区域内溶解，和当活化时，变得亲水并可溶于含水碱性显影剂内，从而提高聚合物在光致抗蚀剂层中的曝光区域内溶解。
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