[发明专利]具有灰度的光掩模及其制造方法

摘要

本发明涉及一种具有灰度的光掩模及其制造方法，在用于减少光刻工序数的具有灰度的光掩模中，使用通用的光掩模坯料，防止遮光膜的反射率升高，且半透明膜图案形成时的对准容易，可在遮光膜图案上阶梯覆盖良好地形成半透明膜，所述具有灰度的光掩模(100)，在透明基板上具有所希望的图案，且形成图案的膜由实质上不能透过曝光光的遮光膜(114)、和以所希望的透射率透过曝光光的半透明膜(113)构成，在透明基板(101)上混在按顺序层叠遮光膜(114)和半透明膜(113)而存在的遮光区域、只有半透明膜(113)存在的半透明区域、及遮光膜(114)和半透明膜(113)都不存在的透射区域，其特征在于，半透明膜(113)相对于曝光光具有防反射功能。

主权项

1.一种具有灰度的光掩模，在透明基板上具有所希望的图案，且形成所述图案的膜由实质上不能透过曝光光的遮光膜、和以所希望的透射率透过所述曝光光的半透明膜构成，在所述透明基板上混在按顺序层叠所述遮光膜和所述半透明膜而存在的遮光区域、只有所述半透明膜存在的半透明区域、及所述遮光膜和所述半透明膜都不存在的透射区域，其特征在于，所述半透明膜相对于所述曝光光具有防反射功能。