[发明专利]为改善有机电子器件加工和性能的中和阳极缓冲层有效

专利信息
申请号: 200680036405.4 申请日: 2006-08-11
公开(公告)号: CN101278420A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: P·-M·阿利曼德 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: H01L51/54 分类号: H01L51/54
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吕彩霞;范赤
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 用组合了挥发性碱的酸性阳极缓冲层(ABL)材料形成有机电子薄膜,所述挥发性碱完全或部分地中和酸性ABL材料中的酸性基团。
搜索关键词: 改善 有机 电子器件 加工 性能 中和 阳极 缓冲
【主权项】:
1.一种有机薄膜,包含酸性ABL材料;和挥发性碱,加至所述酸性ABL材料,以形成溶液,所述挥发性碱至少部分地中和所述酸性ABL材料中的酸性基团,所述溶液经沉积和干燥形成所述薄膜。
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