[发明专利]用于痕量元素制图的单色x射线微束有效
| 申请号： | 200680036809.3 | 申请日： | 2006-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN101278360A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 陈泽武;高宁;W·吉布森 | 申请（专利权）人： | X射线光学系统公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06;G01N23/223 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 蹇炜 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于激发处于x射线分析中的样品的x射线系统或方法，其使用弯曲的单色光学器件将来自x射线源的单色x射线束引导朝向第一焦点区域。第二光学器件安置在单色x射线束中并接收该单色x射线束，且将聚焦的x射线束引导朝向样品上的第二焦点区域。探测器安置在样品附近，以收集作为聚焦的x射线束的结果的而来自样品的辐射。弯曲的单色光学器件在所述第一焦点区域产生的束斑尺寸大于由所述第二光学器件在所述第二焦点区域产生的束斑尺寸，因此，通过使用第二光学器件减小了样品上的束斑尺寸。双曲单色光学器件和多毛细管光学器件作为光学器件的可能的实施被公开。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 痕量 元素 制图 单色 射线 | ||
【主权项】：
1、一种用于激发处于x射线分析中的样品的x射线系统，其包括：弯曲的单色光学器件，其用于将来自x射线源的单色x射线束引导朝向第一焦点；第二光学器件，安置在所述单色x射线束中并接收所述单色x射线束，且将聚焦的x射线束引导朝向所述样品上的第二焦点；以及探测器，安置在所述样品附近，以收集作为所述聚焦的x射线束的结果而来自所述样品的辐射。
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