[发明专利]多组分合金溅射靶及其制备方法无效
| 申请号： | 200680037768.X | 申请日： | 2006-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN101283113A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 马丁·施洛特;汉斯－约阿希姆·帕维尔;马库斯·舒尔特海斯 | 申请（专利权）人： | W.C.贺利氏有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁业平;张天舒 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种由包含至少两相或至少两种组分的材料构成的溅射靶，其中至少一相具有晶粒结构，所述溅射靶的特征在于：所述的至少一相的晶粒结构具有大于2的直径比，其中所述直径比是该晶粒结构的最大直径与其垂直方向上的直径之比；并且所述材料的密度为其理论密度的至少98％。本发明还涉及制备溅射靶的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 组分 合金 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，该溅射靶由包含至少两相或至少两种组分的材料构成，其中至少一相具有晶粒结构，所述溅射靶的特征在于：所述的至少一相的晶粒结构具有大于2的直径比，其中所述直径比是该晶粒结构的最大直径与其垂直方向上的直径之比；并且所述材料的密度为其理论密度的至少98％。
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