[发明专利]在193纳米辐射波长具有低折射率的顶部抗反射涂料组合物有效
| 申请号： | 200680037968.5 | 申请日： | 2006-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN101288029A | 公开（公告）日： | 2008-10-15 |
| 发明（设计）人： | 黄武松;W·希思;K·帕特尔;P·瓦拉纳斯 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 已发现一种组合物，其特征是存在具有芳族残基、且对193纳米辐射波长的折射率值n小于1.5的可溶于碱性水溶液的聚合物，其尤其可用作193纳米干式光刻法中的顶部抗反射涂层。已发现，具有烯式骨架并具有氟和磺酸残基的聚合物尤其有用。该组合物能够利用它们在碱性显影剂水溶液中的可溶性而在提供易用性的同时实现在193纳米的顶部反射控制。 | ||
| 搜索关键词： | 193 纳米 辐射 波长 具有 折射率 顶部 反射 涂料 组合 | ||
【主权项】：
1.适合用作193纳米光刻法所用的顶部抗反射涂层的组合物，所述组合物包含具有芳族残基、且对193纳米辐射波长的折射率值n小于1.5的可溶于碱性水溶液的聚合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司，未经国际商业机器公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680037968.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电子镇流器和用于驱动电灯的方法
- 下一篇：将纬纱投引到织机中的方法和装置
