[发明专利]使用抗反射膜以降低光串扰的固态成像器和形成方法有效
| 申请号： | 200680038501.2 | 申请日： | 2006-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN101292520A | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | 李久滔 | 申请（专利权）人： | 美光科技公司 |
| 主分类号： | H04N5/335 | 分类号： | H04N5/335;H01L27/146 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王允方 |
| 地址： | 美国爱*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用抗反射膜涂布成像装置中的传导线以降低由从所述传导线反射的光造成的串扰。界面在所述抗反射膜与所述传导线表面的表面之间产生。第二界面存在于所述抗反射膜与上覆绝缘层之间。所述抗反射膜是由具有复折射率的材料形成的，使得反射率在所述两个界面中的每一者处降低。所述抗反射膜还可具有光吸收性，以提供光反射和由此引起的串扰的进一步降低。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 反射 降低 光串扰 固态 成像 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种装置，其包含：像素阵列，其含有多个像素，每个像素具有像素电路；传导线，其用于与所述像素电路进行电连接；和抗反射膜，其提供在所述传导线的至少若干部分上。
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