[发明专利]用于光刻法的系统、掩模和方法

摘要

使用通过掩模函数定义的轮廓来表示光掩模图案。给出目标图案，将轮廓最优化，以便当在光刻法工艺中使用所定义的光掩模时，印刷晶片图案忠实于目标图案。最优化利用“效益函数”，用于对以下方面进行编码：光刻法工艺、关于得到的图案(例如，约束为直线型图案)的优选选项、抗工艺变化的鲁棒性、以及关于光掩模的实际和经济制造性而实施的约束。

主权项

1.一种用于确定在光刻法工艺中的光掩模上使用的掩模图案的方法，其中所述光掩模具有拥有不同光学属性的多个不同类型的区域，所述方法包括：将目标图案划分成为所述目标图案的子集；提供第一掩模图案，所述第一掩模图案包括与所述光掩模的所述不同类型的区域相对应的多个不同类型的区域，其中所述第一掩模图案与所述目标图案的所述子集的至少一个相对应；确定与所述第一掩模图案相对应的第一函数，其中所述第一函数的范围具有大于所述第一掩模图案的不同类型区域的数目的基数，以及其中所述第一函数的域与所述第一掩模图案的平面相对应；以及至少部分地基于所述第一函数来生成第二函数，其中所述第二函数与第二掩模图案相对应。