[发明专利]使光均匀化的装置无效

专利信息
申请号: 200680039974.4 申请日: 2006-10-27
公开(公告)号: CN101310208A 公开(公告)日: 2008-11-19
发明(设计)人: 维塔利·利索特申克;阿莱克塞·米凯洛夫;麦克希姆·达什特;尤瑞·米科利阿维 申请(专利权)人: LIMO专利管理有限及两合公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;G02B3/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 赵冰
地址: 德国盖*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种用于使光均匀化的装置,包括:至少一个光学功能面(2),要均匀化的光可以通过所述光学功能面;多个凹的和凸的柱面透镜(5,6),它们交替地相邻排列在所述至少一个光学功能面(2)上;以及凹和凸的柱面透镜(5,6)之间的至少一个第一种实施方式的过渡区域和与第一种实施方式不同的至少一个第二种实施方式的过渡区域(4a,4b),其中凹和凸的柱面透镜(5,6)间的过渡区域(4a,4b)被构造为使得穿过凹和凸的柱面透镜(5,6)之间的不同实施方式的过渡区域(4a,4b)的要均匀化的光的子射线相互间具有一个光学行程差,这个光学行程差有助于减弱被均匀化的光(8)中的干涉效应。
搜索关键词: 均匀 装置
【主权项】:
1.一种用于使光均匀化的装置,包括:-至少一个光学功能面(2),要均匀化的光可以穿过所述光学功能面;-多个凹和凸的柱面透镜(5,6),它们交替地相邻排列在所述至少一个光学功能面(2)上;-凹和凸的柱面透镜(5,6)之间的至少一个第一种实施方式的过渡区域(4a)以及凹和凸的柱面透镜(5,6)之间的与第一种实施方式不同的至少一个第二种实施方式的过渡区域(4b);其特征在于,凹和凸的柱面透镜(5,6)之间的过渡区域(4a,4b)被构造为使得穿过凹和凸的柱面透镜(5,6)之间的不同实施方式的过渡区域(4a,4b)的要均匀化的光的子射线相互间具有一个光学行程差,这个光学行程差有助于减弱被均匀化的光(8)中的干涉效应。
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