[发明专利]写入条件优化方法和设备以及光记录介质无效
| 申请号： | 200680040936.0 | 申请日： | 2006-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN101300624A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 裴在喆;金朱镐;李坰根;赵辉;福泽成敏;菊川隆;小林龙弘 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/0045 | 分类号： | G11B7/0045 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭鸿禧;刘奕晴 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种优化光记录介质的写入条件的方法，包括：在光记录介质上按照写入条件写入测试模式数据；将通过再现写入的测试模式数据检测的误差模式二进制信号与测试模式数据的校正模式二进制信号进行比较；以及基于比较的结果来确定光记录介质的最佳写入条件。 | ||
| 搜索关键词： | 写入 条件 优化 方法 设备 以及 记录 介质 | ||
【主权项】：
1、一种优化光记录介质的写入条件的方法，包括：在光记录介质上按照写入条件写入测试模式数据；将通过再现写入的测试模式数据检测的误差模式二进制信号与测试模式数据的校正模式二进制信号进行比较；以及基于比较的结果来确定光记录介质的最佳写入条件。
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