[发明专利]用于去除光刻胶的稀释剂组合物无效
| 申请号： | 200680041062.0 | 申请日： | 2006-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101300529A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 朴熙珍;辛成健;尹锡壹;金柄郁 | 申请（专利权）人： | 株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于去除用在半导体器件、液晶显示器或有机发光器件的制备中的光刻胶的稀释剂组合物，并且更具体地，涉及一种包含二元醇醚化合物，特别地作为表面活性剂的氟化丙烯酸共聚物、有机溶剂或其混合物的用于去除光刻胶的稀释剂组合物。本发明的用于去除光刻胶的稀释剂组合物能够在短时间内有效地去除用于有机EL的玻璃基板和用于制备液晶显示器的那些基板的边沿和背面的多余的光刻胶，而无论所使用的特定的光刻胶。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 光刻 稀释剂 组合 | ||
【主权项】：
1、一种用于去除光刻胶的稀释剂组合物，其包含二元醇醚化合物。
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