[发明专利]用于厚的光致抗蚀剂层的可显影底涂组合物无效
| 申请号： | 200680041865.6 | 申请日： | 2006-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN101305321A | 公开（公告）日： | 2008-11-12 |
| 发明（设计）人： | M·A·托克西;J·E·奥波兰德;S·K·穆伦 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/095 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于光致抗蚀剂的底涂组合物，含有在碱性显影剂水溶液中不溶、但在显影前变得可溶的聚合物，和当暴露在辐射下时将产生强酸的光致产酸剂，而且所述聚合物在曝光辐射下是透明的。本发明还涉及使底涂组合物成像的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光致抗蚀剂层 显影 组合 | ||
【主权项】：
1、用于光致抗蚀剂的底涂组合物，包含在碱性显影剂水溶液中不溶、但在显影前变得可溶的聚合物，和在曝光辐射下产生强酸的光致产酸剂，而且所述聚合物在曝光辐射下是透明的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AZ电子材料美国公司，未经AZ电子材料美国公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680041865.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
