[发明专利]制造半导体器件的方法以及用该方法获得的半导体器件有效
申请号: | 200680043270.4 | 申请日: | 2006-10-29 |
公开(公告)号: | CN101313394A | 公开(公告)日: | 2008-11-26 |
发明(设计)人: | 约斯特·梅莱;埃尔温·海鲁;菲利浦·默尼耶-贝拉德;约翰内斯·J·T·M·唐克斯 | 申请(专利权)人: | NXP股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/331 | 分类号: | H01L21/331 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱进桂 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种制造半导体器件的方法以及用该方法获得的半导体器件。在半导体本体(12)中形成第一半导体区(13)以形成集电极区和发射极区(1、3)中的一个,以及在半导体本体(12)的表面上形成包括第一绝缘层(4)、多晶半导体层(5)和第二绝缘层(6)的叠层,在所述叠层中形成开口(7),然后利用非选择性外延生长沉积了另一半导体层(22),其中所述开口(7)底部上的单晶水平部分形成基区(2)以及开口(7)侧面上的多晶垂直部分(2A)与多晶半导体层(5)相连,然后与开口(7)侧面平行地形成间隔区(S)以及在所述间隔区(S)之间形成第二半导体区(31)。这样可以以低成本的方式制得具有良好高频性能的双极晶体管器件。 | ||
搜索关键词: | 制造 半导体器件 方法 以及 获得 | ||
【主权项】:
1.一种制造具有衬底(11)和半导体本体(12)的半导体器件(10)的方法,所述半导体器件配置有包括具有发射极区(1)、基区(2)和集电极区(3)的至少一个双极晶体管,其中在半导体本体(12)中形成第一半导体区(13)以形成集电极区和发射极区(1、3)中的一个,以及在半导体本体(12)的表面上形成包括第一绝缘层(4)、多晶半导体层(5)和第二绝缘层(6)的叠层,在所述叠层中形成开口(7),然后通过非选择性外延生长沉积另一半导体层(22),其中所述开口(7)底部上的单晶水平部分形成基区(2)以及开口(7)侧面上的多晶垂直部分(2A)与多晶半导体层(5)相连,然后与开口(7)侧面平行地形成间隔区(S)以及在所述间隔区(S)之间形成第二半导体区(31)以形成发射极区和集电极区(1、3)中的另一个(1),其特征在于在沉积所述另一半导体层(22)之前,向所述第二绝缘层(6)提供端部(6A),从投影看所述端部悬挂在下层半导体层(5)的端部(5A)之上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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