[发明专利]再循环烷烃浸渍液的装置及使用方法无效
| 申请号： | 200680043916.9 | 申请日： | 2006-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN101313251A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | D·J·阿德尔曼;R·H·弗伦奇;M·F·莱蒙;彭晟;A·L·舍;R·C·惠兰 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 段晓玲;孙秀武 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了洁净的闭环流体输送系统和再循环低吸光度液态烷烃的方法。该烷烃可有利地用作通过使用紫外线波长的光刻法制造电子或集成光电路元件时的浸渍液。 | ||
| 搜索关键词： | 再循环 烷烃 浸渍 装置 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种装置，其包括：包含吸附剂段的洁净的闭环流体输送系统；过滤段；具有入口点的光成像段；为连接所述段而设置的管；为使流体经过所述管流入和流出所述段而设置的泵；用于将流体输入和移出所述光成像段的设备；和包含在该装置中的液态烷烃，其中在其光成像段入口点处，所述液态烷烃在193纳米处的吸光度小于0.40厘米-1。
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