[发明专利]用于气体分离的功能化无机膜有效

专利信息
申请号: 200680044556.4 申请日: 2006-09-11
公开(公告)号: CN101316648A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 顾佑宗;詹姆斯·A·拉德;詹尼弗·L·莫莱森;路易斯·A·希克;维德亚·拉马斯瓦米 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: B01D71/02 分类号: B01D71/02;B01D67/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 封新琴
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种多孔膜,其用于在高于约200℃的温度以高于克努森扩散选择性的选择性从液流中分离二氧化碳。该多孔膜包括:多孔支撑层,其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆;多孔分离层,其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆;及功能层,其包括可与液流接触以优先传输二氧化碳的陶瓷氧化物。具体地,所述功能层可为MgO、CaO、SrO、BaO、La2O3、CeO2、ATiO3、AZrO3、AAl2O4、A1FeO3、A1MnO3、A1CoO3、A1NiO3、A2HfO3、A3CeO3、Li2ZrO3、Li2SiO3、Li2TiO3或它们的混合物;其中A为Mg、Ca、Sr或Ba,A1为La、Ca、Sr或Ba,A2为Ca、Sr或Ba,及A3为Sr或Ba。
搜索关键词: 用于 气体 分离 功能 无机
【主权项】:
1.一种多孔膜,其用于在高于200℃的温度以高于克努森扩散选择性的选择性从液流中分离二氧化碳,所述多孔膜包括:多孔支撑层,其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆;多孔分离层,其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆;及功能层,其包括可与所述液流接触以优先传输二氧化碳的陶瓷氧化物。
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