[发明专利]用于气体分离的功能化无机膜有效
申请号: | 200680044556.4 | 申请日: | 2006-09-11 |
公开(公告)号: | CN101316648A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
发明(设计)人: | 顾佑宗;詹姆斯·A·拉德;詹尼弗·L·莫莱森;路易斯·A·希克;维德亚·拉马斯瓦米 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | B01D71/02 | 分类号: | B01D71/02;B01D67/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 封新琴 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种多孔膜,其用于在高于约200℃的温度以高于克努森扩散选择性的选择性从液流中分离二氧化碳。该多孔膜包括:多孔支撑层,其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆;多孔分离层,其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆;及功能层,其包括可与液流接触以优先传输二氧化碳的陶瓷氧化物。具体地,所述功能层可为MgO、CaO、SrO、BaO、La2O3、CeO2、ATiO3、AZrO3、AAl2O4、A1FeO3、A1MnO3、A1CoO3、A1NiO3、A2HfO3、A3CeO3、Li2ZrO3、Li2SiO3、Li2TiO3或它们的混合物;其中A为Mg、Ca、Sr或Ba,A1为La、Ca、Sr或Ba,A2为Ca、Sr或Ba,及A3为Sr或Ba。 | ||
搜索关键词: | 用于 气体 分离 功能 无机 | ||
【主权项】:
1.一种多孔膜,其用于在高于200℃的温度以高于克努森扩散选择性的选择性从液流中分离二氧化碳,所述多孔膜包括:多孔支撑层,其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆;多孔分离层,其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆;及功能层,其包括可与所述液流接触以优先传输二氧化碳的陶瓷氧化物。
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