[发明专利]制造具有高对比率的反射空间光调制器的方法有效
| 申请号： | 200680044605.4 | 申请日： | 2006-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN101316790A | 公开（公告）日： | 2008-12-03 |
| 发明（设计）人： | 黄克刚;杨晓;陈东敏 | 申请（专利权）人： | 明锐有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了制造具有高对比率的反射空间光调制器的方法。通过将诸如支撑柱和可动铰链之类的非反射元件布置在像素的反射表面后面，可以增强空间光调制器器件所提供的对比度。根据一个实施例，由牺牲层中的间隙所限定的反射材料的一体的肋将反射表面悬挂在下层的包含铰链的层之上。根据可替换的实施例，由在诸如氧化物之类的介入层中形成的间隙将反射表面与下层铰链分离。在任一实施例中，将相邻像素区域分离的壁可以在反射表面之下凹进，以进一步减少对入射光的不期望的散射并从而增强对比度。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 具有 比率 反射 空间 调制器 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造反射像素的方法，该方法包括：提供带有导电层并且由CMOS衬底上的下层柱支撑的硅层；在第一光刻胶掩模的间隙中刻蚀穿所述导电层和所述硅层，以限定与所述硅层中的可动铰链部分相邻的开口；在由所述导电层上的被图案化的第二光刻胶掩模所限定的过孔中沉积反射材料；以及去除所述第二光刻胶掩模留下所述反射材料，所述反射材料被所述过孔的此前位置处的凸出物支撑在所述导电层和铰链之上。
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