[发明专利]用于建立离子束相对于晶圆的方位及修正角度误差的装置有效
| 申请号： | 200680045119.4 | 申请日： | 2006-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN101322219A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | R·雷斯梅尔;B·范德贝尔格 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯技术公司 |
| 主分类号： | H01J37/244 | 分类号： | H01J37/244;H01J37/317 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;张志醒 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的一个或多个方面涉及便于确定在离子束与工件之间的相对方位的测量部件。测量部件对离子辐射是敏感的，并且通过相对于离子束移动测量部件而允许准确地确定测量部件与离子束之间的相对方位。测量部件以相对于工件的已知关系定向，使得可以建立工件与波束之间的相对方位。知道了离子束与工件之间的相对方位允许将工件定向在相对于已测量波束角的特定角度上，以取得更准确及更精确的工件掺杂而改善半导体的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 建立 离子束 相对于 方位 修正 角度 误差 装置 | ||
【主权项】：
1.一种帮助离子植入的装置，包括：可操作地与终端站相关联的测量部件，该终端站被配置为相对于离子束定位工件，使得行进在该离子束中的离子在选定位置撞击该工件，在该位置处所述测量部件协助确定所述离子束以及所述工件之间的相对方位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾克塞利斯技术公司，未经艾克塞利斯技术公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680045119.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：登山车叉型轮圈花毂结构
- 下一篇：一种双层真空电热液体容器
