[发明专利]具有改进的耐化学品性的可成像元件无效
| 申请号： | 200680045164.X | 申请日： | 2006-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101321632A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | S·萨赖亚;J·帕特尔;T·陶;K·B·雷;F·E·米克尔;J·L·马利根;J·卡拉门;S·A·贝克利;E·克拉克 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | B41M5/36 | 分类号： | B41M5/36;B41C1/10;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵苏林;范赤 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及单层和多层的可成像元件，其具有基材和至少一层可成像层。这些元件可以用于制备负性或正性工作的成像元件，例如作为石印板。可成像元件还包含辐射吸收性化合物和耐溶剂聚合物，所述聚合物含有聚合物主链和磷酸侧基、金刚烷基侧基或这两种侧基。当此聚合物含有金刚烷基侧基时，这些侧基经由脲或氨酯连接基与所述聚合物的主链连接。由于存在独特的耐溶剂聚合物，可成像元件具有改进的耐化学品性和热烘烤性。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 化学 品性 成像 元件 | ||
【主权项】：
1.一种可成像的元件，其含有基材和位于基材上的可成像层，所述元件进一步含有辐射吸收性化合物和耐溶剂聚合物，所述聚合物含有聚合物主链和磷酸侧基、金刚烷基侧基或这两种侧基，前提是金刚烷基侧基经由脲或氨酯连接基与所述聚合物的主链连接。
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