[发明专利]辐射系统和光刻设备无效
| 申请号： | 200680045796.6 | 申请日： | 2006-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN101322078A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 德尔克·简·威尔弗雷德·克朗德尔;马丁·玛瑞纳斯·约翰内斯·威尔赫尔姆斯·范荷彭 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种用于提供投影辐射束的辐射系统。所述辐射系统包括：极紫外源(3)，所述极紫外源(3)用于提供极紫外辐射(2)；以及污染物阻挡件(4)，所述污染物阻挡件(4)包括多个紧密排布的箔片板(5)，所述箔片板(5)用于俘获来自辐射源的污染物材料。所述污染物阻挡件包围极紫外辐射源。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于提供投影辐射束的辐射系统，所述辐射系统包括：极紫外辐射源，所述极紫外辐射源用于提供极紫外辐射；以及污染物阻挡件，所述污染物阻挡件包括多个紧密排布的箔片板，用于俘获来自所述辐射源的污染物材料，所述污染物阻挡件包围所述极紫外辐射源。
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