[发明专利]往复式孔眼掩模系统及其使用方法

摘要

一种用以在基底上沉积材料图案的装置包括往复式孔眼掩模。一个进料仓容纳多个夹具，每个所述夹具被构造为支承具有限定图案的孔眼的掩模。一个梭子结构接纳由所述进料仓送出的选定夹具，并建立起所述选定夹具上的所述掩模与所述基底的接触。所述梭子结构使所述选定夹具与所述基底成一直线并相对于所述沉积源移动，以使得沉积材料穿过所述选定夹具的所述掩模的所述孔眼，从而在所述基底上形成所述沉积材料的所述图案。

主权项

1.一种在基底上沉积材料图案的装置，包括：传送辊结构，其传送基底，和接纳辊结构，其接纳基底；沉积源，其设置为将沉积材料导向基底；进料仓，其被构造为容纳多个夹具，每个所述夹具被构造为支承掩模，所述掩模具有限定图案的孔眼；以及梭子结构，其被构造为接纳所述进料仓送出的选定夹具，并建立起所述选定夹具上的所述掩模与所述基底之间的接触，所述梭子结构被构造为使所述选定夹具与所述基底成一直线并相对于所述沉积源移动，以使得沉积材料穿过所述选定夹具的所述掩模的所述孔眼，从而在所述基底上形成所述沉积材料的图案。