[发明专利]光化学传感器及其制造方法有效
| 申请号： | 200680047689.7 | 申请日： | 2006-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN101331399A | 公开（公告）日： | 2008-12-24 |
| 发明（设计）人： | 尼尔·拉科;迈克尔·S·文德兰;迈克尔·C·帕拉佐托;多拉·M·保卢奇;理查德·J·波里尔;斯特凡·H·格里斯卡;约翰·E·特伦德;莫塞斯·M·大卫 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G01N33/52 | 分类号： | G01N33/52 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 郇春艳;郭国清 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 制造光化学传感器的方法，所述方法包括：提供具有主表面的反射基板；将包括至少一种本质上微孔的聚合物的检测层固定到所述主表面的至少一部分上；在所述检测层的至少一部分上沉积基本上连续的半反射金属层，所述半反射金属层包括钯并且其中具有不规则细缝的网；以及在分子氧存在下，在足以使所述缝变宽的温度下加热所述检测层和半反射金属层。还公开了根据该方法制备的传感器。 | ||
| 搜索关键词： | 光化学 传感器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造光化学传感器的方法，所述方法包括：提供具有主表面的反射基板；将包括至少一种本质上微孔的聚合物的检测层固定到所述主表面的至少一部分上；在所述检测层的至少一部分上沉积基本上连续的半反射金属层，所述半反射金属层包括钯并且其中具有不规则细缝的网；以及在分子氧存在下，在足以使所述缝变宽的温度下加热至少所述检测层和半反射金属层。
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