[发明专利]实现高效等离子阱的方法和装置有效
申请号: | 200680048356.6 | 申请日: | 2006-12-20 |
公开(公告)号: | CN101395963A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 穆罕默德·卡马尔哈;胜炎·艾伯特·王 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H05B6/80 | 分类号: | H05B6/80;H05B7/02 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余 刚;尚志峰 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种装置,配置为将等离子保持在下游微波等离子系统的等离子管总成内。下游微波等离子系统配置为在等离子管总成的等离子保持区域内生成等离子,并且将至少一部分等离子向下游引导至下游微波等离子系统的等离子处理室。装置包括第一中空的导电圆盘,其围绕限定等离子管总成的等离子通道的圆柱形结构。装置还包括第二中空的导电圆盘,其也围绕该圆柱形结构。第二中空的导电圆盘配置为以相对于第一中空的导电圆盘间隔分开的关系设置,以便在第一中空的导电圆盘和第二中空的导电圆盘之间形成第一中空的圆盘形间隙区。 | ||
搜索关键词: | 实现 高效 等离子 方法 装置 | ||
【主权项】:
1. 一种装置,配置为将等离子包含在下游微波等离子系统的等离子管总成内,所述下游微波等离子系统配置为在所述等离子管总成的等离子保持区域内生成等离子并且将至少一部分所述等离子向下游引导至所述下游微波等离子系统的等离子处理室,包括:第一中空的导电圆盘,其围绕限定所述等离子管总成的等离子通道的圆柱形结构;第二中空的导电圆盘,其也围绕所述圆柱形结构,所述第二中空的导电圆盘配置为以相对所述第一中空的导电圆盘间隔分开的关系设置,以便在所述第一中空的导电圆盘和所述第二中空的导电圆盘之间形成第一中空的圆盘形间隙区;和第三中空的导电圆盘,其也围绕所述圆柱形结构,所述第三中空的导电圆盘配置为以相对所述第二中空的导电圆盘间隔分开的关系设置,以便在所述第三中空的导电圆盘和所述第二中空的导电圆盘之间形成第二中空的圆盘形间隙区,借此所述第一中空的导电圆盘、所述第二中空的导电圆盘、所述第三中空的导电圆盘、所述第一中空的圆盘形间隙区和所述第二中空的圆盘形间隙区形成相对所述等离子管总成的等离子保持区域的上游等离子阱和下游等离子阱之一。
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