[发明专利]用于制造半导体装置的激光辐射设备和方法有效

专利信息
申请号: 200680048612.1 申请日: 2006-12-13
公开(公告)号: CN101346800A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 田中幸一郎;山本良明 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L21/268 分类号: H01L21/268;B23K26/08;H01L21/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳;刘宗杰
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种激光辐射设备,其具有激光振荡器,铰接的光束传播器,其中多个管道在铰接部分中互相连接,以及在该铰接部分中的激光束的线路改变装置。该多个管道中的至少一个管道包括用于抑制激光束在每个管道中的传播方向上的摆动的传递透镜。该铰接部分产生激光振荡器的设置的自由度,并且该传递透镜能够抑制光束轮廓的变化。
搜索关键词: 用于 制造 半导体 装置 激光 辐射 设备 方法
【主权项】:
1.一种激光辐射设备,包括:激光振荡器;和铰接的光束传播器,传播由该激光振荡器产生的激光束,其中该铰接的光束传播器包括:至少第一和第二铰接部分;多个管道,其中第一个管道的一端通过该第一铰接部分连接到第二个管道的一端,并且其中该第一个管道的另一端通过该第二铰接部分连接到第三个管道的一端;激光束的至少第一和第二线路改变器,该第一和第二线路改变器被分别设置在该第一和第二铰接部分中;和被包括在第一个管道内的传递透镜,其中该传递透镜被设置成使得插入该传递透镜的第一和第二线路改变器相互共轭。
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