[发明专利]采用用于离子注入系统的变角度狭槽阵列的离子束角度测量系统及方法有效
| 申请号： | 200680048644.1 | 申请日： | 2006-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN101421815A | 公开（公告）日： | 2009-04-29 |
| 发明（设计）人： | 布莱恩·弗瑞尔 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在离子注入期间测量离子束入射角的角度测量系统，包括变角度狭槽阵列和位于变角度狭槽阵列下游的电荷测量器件阵列。变角度狭槽阵列包括形成在结构中从入射表面到出射表面的狭槽。每一个狭槽具有变化的接收角范围。电荷测量器件阵列个别地与狭槽相关，且能测量穿过狭槽的细光束的电荷或电子束电流。这些测量结果以及变化的或不同的接收角范围随后能被应用于确定离子束的测量出的入射角和/或角度内容。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 用于 离子 注入 系统 角度 阵列 离子束 测量 方法 | ||
【主权项】：
1、一种离子注入系统，包括：产生离子束的离子源；从离子源接收离子束和处理离子束的束流线组件；从束流线组件接收离子束的角度测量系统，所述角度测量系统包括：变角度狭槽阵列，其包括限定在结构中的各个狭槽，以及具有相关的接收角范围，其选择性地穿过具有相关接收角范围的仅仅一部分离子束，其中，狭槽中的至少两个具有不同的相关的接收角范围；以及与各个狭槽相关的电荷测量器件阵列，其测量穿过变角度狭槽阵列的部分离子束的电荷；以及从束流线组件接收离子束的目标位置。
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