[发明专利]具有共振隧道势垒的增强的多位非易失性存储器装置有效

专利信息
申请号: 200680050557.X 申请日: 2006-12-08
公开(公告)号: CN101356627A 公开(公告)日: 2009-01-28
发明(设计)人: 阿勒普·巴塔查里亚 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L21/28 分类号: H01L21/28;G11C16/04;H01L29/423;H01L29/51
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 王允方
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种非易失性存储器单元使用共振隧道势垒(600),所述共振隧道势垒(600)在HfSiON或LaAlO3的两个层(610,612)之间具有非晶硅及/或非晶锗层(611)。电荷捕捉层(620)形成于所述隧道势垒上。高k电荷阻挡层形成于所述电荷捕捉层上。控制栅极(623)形成于所述电荷阻挡层上。另一实施例在隧道势垒(600)上形成包含两个氧化物层(610,612)的浮动栅极(620),其中在所述氧化物层之间具有硅及/或锗的非晶层(611)。
搜索关键词: 具有 共振 隧道 增强 非易失性存储器 装置
【主权项】:
1、一种非易失性存储器单元,其包括:衬底,其具有一对源极/漏极区域;栅极绝缘层堆叠,其形成于所述衬底上且大致位于所述源极/漏极对的区域之间,所述绝缘层堆叠包括:形成于所述衬底上的HfSiON或LaAlO3中的一者的第一层;所述第一层上的硅或锗的非晶层;及形成于所述非晶层上的HfSiON或LaAlO3中的一者的第二层;电荷捕捉层,其形成于所述栅极绝缘层堆叠上;电荷阻挡层,其形成于所述电荷捕捉层上;及栅极,其形成于所述电荷阻挡层上。
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