[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 200680051270.9 申请日: 2006-01-17
公开(公告)号: CN101361169A 公开(公告)日: 2009-02-04
发明(设计)人: 荒木浩之;德利宪太郎 申请(专利权)人: 大日本网屏制造株式会社
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 马少东;徐恕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开一种基板处理装置以及基板处理方法,通过从基板表面良好地排除冲洗液,能够抑制或者防止产生基板表面上的条状的颗粒。该基板处理装置具有基板倾斜机构,所述基板倾斜机构使保持基板的基板保持机构上的基板倾斜。在向基板上供给冲洗液而形成液块之后,通过基板倾斜机构,使基板倾斜微小角度。这样,液块不发生破裂,并且在基板的上表面上不残留微小液滴而向下方落下。此后,基板返回水平姿势,使基板干燥。
搜索关键词: 处理 装置 以及 方法
【主权项】:
1.一种基板处理装置,其特征在于,包含:基板保持机构,其以使基板的一侧表面朝向上方的姿势保持基板;冲洗液供给机构,其用于向该基板保持机构所保持的基板的所述一侧表面供给冲洗液;基板倾斜机构,其用于使所述基板保持机构所保持的基板从所述一侧表面沿着水平面的水平姿势倾斜为所述一侧表面相对水平面以规定角度倾斜的倾斜姿势;基板干燥装置,其用于使所述基板保持机构所保持的基板的表面干燥。
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